锆铪化合物

锆-UIO-66

N/A

- 华威锐科 95%

钨酸锆

Zirconiumtungstate

- 华威锐科 95.00%

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 ≥99% 500nm

正丁醇锆(IV)

Zirconium(IV) Butoxide

- 华威锐科 40 wt. %正丁醇溶液

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99%，100-200nm

硅铪合金

Hafnium silicide

- 华威锐科 ≥99%,≤1mm,铪:80-85%,硅:20-15%,电镜观察无明显分相

二硅化铪

Hafnium silicide

- 华威锐科 99.5% ,＜1μm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99.9%,200mesh

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99% 100-300nm

硼化锆

Zirconium Boride

- 华威锐科 ≥99% 40nm

硼化锆

Zirconium Boride

- 华威锐科 99.5% ＜1μm

硼化锆

Zirconium Boride

- 华威锐科 ≥99% 100nm

二硼化铪

Hafnium Diboride

- 华威锐科 99.5%,500nm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 99.9%,22-53μm

氧化钇稳定氧化锆(IV)8YSZ

N/A

- 华威锐科 99.9% 200-400目

氧化钇稳定氧化锆5YSZ

Zirconium(IV) oxide-yttria stabilized

- 华威锐科 5%摩尔比，8%质量比，粒径50-80nm

碳化铪

Hafnium carbide

- 华威锐科 99% D(50)500nm Zr＜0.5%

碳化铪

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99.5%，100nm

氮化铪

Hafnium nitride

- 华威锐科 99.9% 200nm

正丁醇铪

Hafnium(IV) n-butoxide

- 华威锐科 40-45%丁醇溶液