锆铪化合物

二硅化铪

Hafnium silicide

- 华威锐科 99.5% ,＜1μm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 1-3μm 99%

碳化铪(IV)

HAFNIUM CARBIDE

- 华威锐科 99.5%, 1-3μm

氮化铪

Hafnium nitride

- 华威锐科 99.9% 200nm

正丁醇铪

Hafnium(IV) n-butoxide

- 华威锐科 40-45%丁醇溶液

锆酸四丁酯

Zirconium(IV) butoxide solution

- 华威锐科 85wt.%正丁醇溶液

二硼化铪

Hafnium Diboride

- 华威锐科 99% 1-3μm

硅锆合金(锆/硅60：40）

N/A

- 华威锐科 ≥99% 3mm

硅锆合金(锆/硅60：40）

N/A

- 华威锐科 ≥99% 2mm

硅锆合金(锆/硅60：40）

N/A

- 华威锐科 ≥99% 1mm

硅锆合金

N/A

- 华威锐科 Zr 10% Si 90% 325目

硅锆合金

N/A

- 华威锐科 Zr 30% Si 60%

碳化钽铪

Tantalum Hafnium carbide

- 华威锐科 99%，D50≤3μm

锆-UIO-66

N/A

- 华威锐科 95%

碳化铪前驱体

N/A

- 华威锐科 99%，25℃粘度≤200mPa.s，铪含量≥25wt%，陶瓷产物氧含量≤2wt%，陶瓷产率36%

碳化锆

N/A

- 华威锐科 ≥99% 500nm

正丁醇锆(IV)

Zirconium(IV) Butoxide

- 华威锐科 40 wt. %正丁醇溶液

硅锆合金

N/A

- 华威锐科 ≥99%，≤1cm

碳化锆

Zirconium carbide

- 华威锐科 99%，100-200nm

氧化锆(IV)

Zirconium(IV) oxide

- 华威锐科 99.99% 1-3μm